S. Pitsch, P. Wenter, A. Stutz, L. Reymond, S. Porcher, A. Peer, E. Muller, M. Meyyappan, F. Meylan, C. Denarie, D. Ackermann, X. Wu, Chimia 2005, 59, 808, DOI: 10.2533/000942905777675633.